第1051章 上帝说要有光（第三更，二合一）

年底，张敬业提出了一个创新性的想法：在集成电路的制造中和光学-化学的反应原理和化学丶物理刻蚀方法，将电路图形传递交到单晶表面或介质层，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。

在公司工程师的帮助下，张敬业研究一种二氧化矽的扩散技术和PN结的隔离技术，并创造性的在氧化膜上制作出精细的铝膜连线，使元件和导线合成一体。

盯着电路图看了一会，张敬业就离开了办公室，进入了制图室，在那里一名女职员正俯身于桌前，在用精细的刀片在光掩模母版上，徒手把电晶体和电路连接，一点点刻出来。

在光掩模母版的下方还有用彩色铅笔绘制好的集成电路版图，女职员就是刻版时，靠着刻图桌上的背光徒手制版，张敬业则在一旁仔细检查着已经刻好的线路。

差不多过了半个小时，见女职员的额头冒了些汗珠，张敬业便说道：

「玉洁，要不然先休息一会。」

朱玉洁摇头，笑道，

「不用，就差最后一点，等刻好了再休息也不迟。」

说罢，她特意抬头看了一眼老板，强调道。

「如果我没记错的话，咱们的钱快花完了，只有尽快造出它，才能争取进下一轮投资。」

说是最后一点，但是等刻完了最后一块版图，已经临近中午了，但是他们并没停下来，而同把母版图形用专用的相机缩小50-100倍，才能获得一张用来做光刻的光掩模。

当天，世界上第一块光刻集成电路就被制造了出来，而这种和手工光掩模相匹配的原始光刻机，就是接触式光刻机。

时间最终定格在这一天，五六年十二月十日，包括老板在内，只有四名职员的南洋GAD公司制造出了第一台接触式光刻机。顾名思义，接触式光刻机，就是简单粗暴地将光掩模盖在矽片上，光掩模与光刻胶图层直接接触，再打光照射，直接曝光，其原理类似于照相机，甚至光刻机的结构都不如照相机复杂。

虽然是一种原始的丶简单的光刻机，但却开启了一个新的时代。

……

「通过铝膜连线，可以使元件和导线合成一体，这种平面制造工艺，不仅可以大规模降低集成电路的成本，而且还可以进行大批量工业化生产……」

在一家投资公司内，张敬业向投资人展示着公司的发明，一个只有拇指大小的集成电路。

「在这块集成电路板上，一共有175个电晶体，它可以称得上世界上最小的集成电路，而且，我相信下一步，我们甚至可以制造出像火柴头一样大小的却集成了上百个电晶体的集成电路！」

在张敬业展示了公司的发明后，那些投资人立即有了兴趣，自从集成电路发明以来，南洋的企业就在研究着它的用途，如果集成电路的需求和产量都太小，那麽企业就无法获利，就像在电晶体刚发明的时候，美国只有１０％的电晶体厂家能在电晶体生产上获利。

而南洋的企业正是通过不断的扩大电晶体的用途，电晶体企业获得了赢利，而在过去的几年间，伴随着南洋电子产业的发展，市场对电晶体和集成电路的需求大大增加了。

但是转折点来自军工产业。两个巨大的军工工程计划——「夸父计划」和「和平卫士飞弹开发计划」，他们大大促进了集成电路的发展，军方非常支持集成电路的开发，他们需要该器件用在「和平卫士飞弹」上的小型计算机中。

看着手中这个集成了几百个电晶体的小玩意，包括项云飞在内的投资人，都被惊呆了，他们自然知道这块集成电路的含金量——这可是几百个电晶体。

他们不一定学过物理学丶电子学，但是作为投资人，他们对于电晶体并不陌生。

「也就是几个电晶体的大小。」

惊叹之馀，项云飞直接问道。

「那麽它的成功率是多少？我是说生产的成品率。」

作为潜在的投资人，项云飞更关心它在商业上的应用，而成品率又关系到它的生产成本。

面对投资人的询问，张敬业也没有隐瞒，直接回答道。

「目前这种光刻方式的失败率和成本都很高，这是因为胶体本身及其粘附的浮尘微粒，它不仅影响光刻效果，还会对光掩膜造成污染和破坏，并且，伤害效果会随着光刻次数累积，这不仅使每次光刻的良率低下，所以它的成功率只有10%……」

听到只有10%的成品率时，项云飞的眉头挑了挑，并没有说什麽，只是反覆打量着手中这个集成了近200个电晶体的集成电路。

想了想，他拿起笔写了个纸条，递给一旁的助理，助理接过纸条一看，上面写到。

「出去问一下，南洋的第一台电子计算机用了多少只电晶体？」

接过纸条后，助理便走出了会议室，片刻后，他就回来了，递交项云飞一根纸条。

接过纸条一看，几个简单的数字就映入项云飞机的视线中。

「Z5计算机，800只电晶体，功率300瓦，计算速度108000次，尺寸0.485立方米。」

800个！

如果换成这块集成电路的话，也就是4个半